微纳加工技术_概述 & 超净环境

不念不忘少年蓝@ 2023-01-07 03:58 105阅读 0赞

### 文章目录 ###

*  1. 加工技术概述
 *   *  加工步骤
     *  例子： CMOS Manufacturing Steps
     *  三维结构
 *  2. 超净环境
 *   *  污染源
     *  避免办法
     *   *  a. 超净室；
         *  b. 清洗

# 1. 加工技术概述 #

## 加工步骤 ##

![在这里插入图片描述][watermark_type_ZmFuZ3poZW5naGVpdGk_shadow_10_text_aHR0cHM6Ly9ibG9nLmNzZG4ubmV0L3dlaXhpbl80NzEzOTY0OQ_size_16_color_FFFFFF_t_70]

## 例子： CMOS Manufacturing Steps ##

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## 三维结构 ##

![在这里插入图片描述][watermark_type_ZmFuZ3poZW5naGVpdGk_shadow_10_text_aHR0cHM6Ly9ibG9nLmNzZG4ubmV0L3dlaXhpbl80NzEzOTY0OQ_size_16_color_FFFFFF_t_70 2]  
![在这里插入图片描述][watermark_type_ZmFuZ3poZW5naGVpdGk_shadow_10_text_aHR0cHM6Ly9ibG9nLmNzZG4ubmV0L3dlaXhpbl80NzEzOTY0OQ_size_16_color_FFFFFF_t_70 3]

# 2. 超净环境 #

## 污染源 ##

a.大气中的微粒，尘埃； 来源：人，空气；  
b.重金属离子：金，铂金 在硅中都是快扩散金属，造成深能级陷阱，对CMOS器件的高频特性造成严重影响；  
c.碱金属离子：钠，钾离子；在硅中为移动电荷，使CMOS器件的阈值漂移；

## 避免办法 ##

### a. 超净室； ###

光刻工艺 10级超净室；其他工艺操作区为 100级超净室；附属设备等为1000级~10000级空间；  
进入超净室的空气经过：粗中高三级过滤；超净室内为自顶向下的层流设计，动力成本较高；  
![在这里插入图片描述][watermark_type_ZmFuZ3poZW5naGVpdGk_shadow_10_text_aHR0cHM6Ly9ibG9nLmNzZG4ubmV0L3dlaXhpbl80NzEzOTY0OQ_size_16_color_FFFFFF_t_70 4]

### b. 清洗 ###

水为超纯水；  
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清洗流程：  
![在这里插入图片描述][watermark_type_ZmFuZ3poZW5naGVpdGk_shadow_10_text_aHR0cHM6Ly9ibG9nLmNzZG4ubmV0L3dlaXhpbl80NzEzOTY0OQ_size_16_color_FFFFFF_t_70 6]  
根据实际情况进行步骤的删减；

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